《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院是幾區(qū)？

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在中科院中是3區(qū)。

具體分區(qū)如下：

大類學(xué)科：物理與天體物理

分區(qū)：3區(qū)

小類學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL工程：化工、ENGINEERING, CHEMICAL物理：應(yīng)用、ENGINEERING, CHEMICAL物理：流體與等離子體

分區(qū)：3區(qū)、3區(qū)、3區(qū)

其他影響力

影響因子：《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的影響因子為2.6，這反映了該雜志在物理與天體物理領(lǐng)域的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。

JCR分區(qū)中屬于：Q2

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q3，排名：91 / 170PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：81 / 179PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：12 / 40 ，按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：55 / 171PHYSICS, APPLIED，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：69 / 179PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS，收錄子集：SCIE，分區(qū)：Q2，排名：17 / 40

Cite Score數(shù)值：5.9，SJR：0.48，SNIP：0.912

學(xué)科類別大類：Physics and Astronomy小類：Condensed Matter Physics，分區(qū)：Q1。

學(xué)科類別大類：Physics and Astronomy小類：Surfaces, Coatings and Films，分區(qū)：Q2。

學(xué)科類別大類：Physics and Astronomy小類：General Chemical Engineering，分區(qū)：Q2。

學(xué)科類別大類：Physics and Astronomy小類：General Chemistry，分區(qū)：Q2。

h-index：57，這一數(shù)字表明《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志在其研究領(lǐng)域內(nèi)擁有相當(dāng)數(shù)量的高質(zhì)量學(xué)術(shù)論文，Gold OA文章占比：14.18%，則進(jìn)一步揭示了該雜志在學(xué)術(shù)成果傳播與共享方面的積極態(tài)度。